인민넷 조문판: 국가박물관에서 거행되고 있는 ‘위대한 변혁—개혁개방 40주년 경축 대형전람’에서 중국의 첫번째 특허 신청자이며 원 항천부 2원 207소 설계사인 호국화의 특허증서가 전시대에 진렬되여있다. 호국화는 “내가 첫번째 특허를 신청했다는 것은 한 과학기술일군의 중국 특허법 실시에 대한 옹호를 표명합니다.”라고 말했다.
호국화의 첫번째 특허신청은 우리 나라의 첫번째 특허신청이기도 하며 1985년 4월 1일에 제출되였다. 이날부터 우리 나라에서는 정식으로 특허신청을 수리했으며 호국화의 두가지 신청외에 3453건의 신청이 제출되였다.
30여년 후의 2017년, 특허신청수는 1985년에 비해 몇백배 늘어났다. 국가지적재산권국 법조사 원 사장 윤신천은, 2017년 우리 나라의 발명특허 신청량은 138.2만건으로 도합 42만건의 발명특허에 권한을 부여했다고 소개했다. 일전에 국무원 보도판공실에서 소집한 ‘개혁개방과 지적재산권사업발전’ 중외 기자회견에서 그는 중국의 특허사업은 1978년부터 시작하여 개혁개방과 동시에 진행되였다고 회고했다.
특허신청수가 급상승함에 따라 우리 나라의 지적재산권 립법에도 거대한 변화가 발생했다. 없던데로부터 있게 되고 비교적 완벽한 법률체계가 형성되였을 뿐만 아니라 더욱 더 국내의 발전수요에 적합해졌다.
올해 12월 5일, 국무원 상무회의에서는 특허법 제4차 개정안 초안을 통과했으며 전국 인대 상무위원회에 제출하여 심의하게 된다. 이번 개정 초안은 그전 세차례의 개정안의 기초상에서 수정하였으며 권리 침해의 비용을 진일보 제고하고 창조자의 열정을 격려할 것을 제출했다.
소개에 따르면 초안은 명년에 통과 될 것으로 보인다.
